“光刻机”概念股，激光光源、光学镜头、双工作台

lameihua

　　大家都知道长期以来，美国一直在半导体领域给中国发展“使绊子”。今年早些时候，美国要求荷兰要扩大对华的出口管制范围，严格限制光刻机巨头阿斯麦对华出口关键的芯片生产设备。

　　此前有消息传出，荷兰有可能会选择在今年夏天到来之前宣布限制对华出口更多光刻机产品，但是在这重要时刻，突然传出荷兰外相即将访华的重磅消息。

　　相信在不久的将来，国产“光刻机”的突破也指日可待！

　　不过，在“光刻机”方向，我国与海外头部公司仍存在较大差距，但在“光刻机”的一些核心方向，也确实取得了突破。

　　光刻机三大核心方向，取得突破性进展

　　一台光刻机，主要由激光光源、物镜系统以及工作台，三大核心部分组成。以下是一张光刻机工作的简易原理图：

　　我们可以看到，光刻机第一个取得突破的是——激光光源。

　　我们都知道光刻机有28nm、22nm、14nm、7nm、5nm等不同规格之分，光刻机想要实现更精确的光刻，就必须要提高分辨率，方法只有两种：一种是减少光源波长，另一种是提高数值孔径。

　　目前，最顶尖的光刻机，光源波长是13.5nm。目前，我国光刻机ArF光源波长已经突破到193nm，已应用在上海微电子制造的28nm光刻机上。

　　光刻机第二个取得突破的核心部件是——光学镜头。

　　光学镜头是整个光刻机最昂贵最复杂的部件，涉及光学、机械、计算机、电子学等多个前沿领域。虽然仅20余枚镜片，但设计难度极大。

　　目前，我国自主研发的光学镜头虽然与卡尔蔡司、尼康等公司的产品还有非常大的差距，但已经可以做到90nm。

　　光刻机的第三个取得突破的核心部分是——双工作台。

　　工作台分为两部分，一个是测量台，一个是曝光台，因此也叫双工作台。两个工作台通过交换位置和智能，提高生产效率。

　　双工作台的技术难度极高，在高速运动下还要保持2nm的精度，目前全球仅阿斯麦掌握核心技术。当然，国内在双工作台方面也取得突破，精度为10nm，但与阿斯麦相比，差距还比较大。

　　除了以上三大核心部分取得突破外，在沉浸系统方面，也取得了一定的突破。目前，国产光刻机沉浸系统还处于DUV阶段，即KrF、ArF、ArFi。前两种已经取得突破，国产最高可做到90nm，可实现国产化替代。

　　那么重点来了，“光刻机”这一波机会，该怎么把握？昼虎经过最近的精心复盘和整理给大家筛选出了5只““光刻机””的龙头潜力股名单，未来有望大涨！尤其是最后一只，近期有望翻10倍！

　　炬光科技 688167 （高功率半导体激光器龙头公司）

　　公司亮点：激光行业具有技术领先优势的企业，主营业务：光子行业上游的高功率半导体激光元器件和原材料（“产生光子”）、激光光学元器件（“调控光子”）的研发、生产和销售

　　福晶科技 002222 （光学混合镜头龙头公司）

　　公司亮点：全球最大LBO、BBO非线性光学晶体生产商，主营业务：晶体元器件、精密光学元件及激光器件等产品的研发、生产和销售。

　　腾景科技 688195（ 精密光学元件龙头公司）

　　公司亮点：公司精密光学元件等优势产品在细分领域具有较高的市场影响力，主营业务：从事各类精密光学元组件、光纤器件研发、生产和销售。

　　奥普光电 002338 （高端光学材料龙头公司）

　　公司亮点：国防用光电测控仪器设备的生产企业，具备相关武器装备科研生产资格，主营业务：光电测控仪器设备、新型医疗仪器、光学材料和光栅编码器等产品的研发、生产与销售。

　　茂莱光学 688502 （精密光学龙头公司）

　　公司亮点：国家级专精特新“小巨人”，主营精密光学器件、光学镜头及光学系统，外销为主，主营业务：精密光学器件，高端光学镜头和先进光学系统的研发、设计、制造及销售。